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Phenom ProX G7 是飛納推出的臺式掃描電鏡能譜一體機，可用于企業研發質控中的材料形貌觀察、缺陷分析和成分判斷。

Phenom ProX G7 電子光學放大倍數可達 350,000 X，分辨率優于 6 nm，采用 CeB6 燈絲，并集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區元素分析和材料研發檢測。

該產品適合高校實驗室、企業研發中心、第三方檢測機構及工業質檢場景。具體配置和價格根據樣品類型、探測器配置、能譜分析需求及服務方案確定，可通過平臺詢價/留言入口獲取選型建議，并預約試樣。

產品特點：

1. 臺式掃描電鏡與能譜分析能力結合。

2. 電子光學放大倍數可達 350,000 X。

3. 分辨率優于 6 nm，適合常規材料微觀形貌觀察。

4. CeB6 燈絲壽命優于 3000 小時。

5. 支持高/低真空模式。

6. 標配背散射探測器和能譜探測器，可選配二次電子探測器。

7. 適合顆粒、異物、缺陷區域和材料微區成分分析。

8. 支持選型咨詢，可預約試樣。

應用領域：

可用于企業研發質控、材料檢測、工藝優化、失效分析、異物來源判斷和質量控制實驗室。

技術參數：

產品型號：Phenom ProX G7

產品全稱：ProX 電鏡能譜一體機

產品類型：臺式掃描電鏡能譜一體機

光學放大：27 - 160 X

電子光學放大：350,000 X

分辨率：優于 6 nm

電子槍：CeB6 燈絲，使用壽命優于 3000 小時

光學導航相機：彩色

加速電壓：基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV

高級模式：4.8 kV - 20.5 kV 連續可調

真空模式：高 / 低真空

探測器：背散射探測器、能譜探測器

可選探測器：二次電子探測器

常見問題：

1. 這款設備適合做什么分析？適合材料形貌觀察、微區元素分析、顆粒異物分析、失效分析和研發質檢。

2. 是否可以做元素分析？可以。該產品為電鏡能譜一體機，可用于顆粒、異物或局部區域的元素分析。

3. 價格是多少？價格根據配置、探測器選項和應用需求確定，可通過平臺詢價入口獲取選型建議，并預約試樣。

如需了解 Phenom ProX G7 在企業研發質控中的配置方案、應用資料或報價信息，可通過平臺詢價/留言入口提交樣品類型與測試需求，獲取選型建議，并預約試樣。